Method and apparatus for optical detection of effluent composition

Procede et dispositif de detection optique de composition d'effluent

Abstract

La présente invention concerne un procédé et un dispositif destinés à déterminer la composition d'un courant d'effluent provenant d'une enceinte de traitement sous vide. Une cellule placée dans le courant d'effluent provenant de l'enceinte de traitement sous vide crée une décharge luminescente à partir des constituants contenus dans le courant d'effluent. Un détecteur optique permet de mesurer une longueur d'onde particulière correspondant à la présence d'espèces particulières. Dans une réalisation, le signal de sortie du détecteur est utilisé afin de déterminer la fin d'un procédé de nettoyage d'une enceinte.
A method and apparatus for determining the composition of an effluent stream from a vacuum processing chamber. A cell placed in the effluent stream from the vacuum processing chamber creates a glow discharge from the constituents in the effluent stream. An optical detector measures a particular wavelength corresponding to the presence of a particular species. In one embodiment the output from the optical detector is used to determine the endpoint of a chamber cleaning process.

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Patent Citations (9)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    EP-0859250-A1August 19, 1998Applied Materials, Inc.Bandpass photon detector
    US-4609810-ASeptember 02, 1986The Perkin-Elmer CorporationApparatus for controlling a plasma
    US-4859277-AAugust 22, 1989Texas Instruments IncorporatedMethod for measuring plasma properties in semiconductor processing
    US-5288367-AFebruary 22, 1994International Business Machines CorporationEnd-point detection
    US-5308414-AMay 03, 1994International Business Machines CorporationMethod and apparatus for optical emission end point detection in plasma etching processes
    US-5348614-ASeptember 20, 1994Lsi Logic CorporationProcess for dynamic control of the concentration of one or more reactants in a plasma-enhanced process for formation of integrated circuit structures
    US-5565114-AOctober 15, 1996Tokyo Electron Limited, Tokyo Electron Yamanashi LimitedMethod and device for detecting the end point of plasma process
    US-5632821-AMay 27, 1997Anelva CorporationPost treatment method for in-situ cleaning
    WO-9906610-A1February 11, 1999Applied Komatsu Technology, Inc.Method and apparatus for detecting the endpoint of a chamber cleaning

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    Title

Cited By (17)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    EP-1022559-B1August 29, 2007Alcatel LucentEquipment for identifying gaseous effluents& xA;
    EP-1139386-A2October 04, 2001Applied Materials, Inc.Monitoring an effluent from a chamber
    EP-1139386-A3November 19, 2003Applied Materials, Inc.Überwachung der Ausströmung aus einer Kammer
    EP-1701598-A1September 13, 2006Askair technologies AGVerfahren zur Führung einer Durchfluss-Plasmavorrichtung
    FR-2920539-A1March 06, 2009Alcatel Lucent SasSysteme d'analyse de gaz a basse pression par spectroscopie d'emission optique
    JP-2010537211-ADecember 02, 2010アルカテル−ルーセント発光分光法により低圧ガスを分析するためのシステム
    KR-100929719-B1December 03, 2009어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드처리 챔버들에서의 처리 종료점 검출
    KR-101441167-B1September 17, 2014알까뗄 루슨트광 발광 분광법에 의해 저압 가스를 분석하는 시스템
    US-6878214-B2April 12, 2005Applied Materials, Inc.Process endpoint detection in processing chambers
    US-7201174-B2April 10, 2007Tokyo Electron LimitedProcessing apparatus and cleaning method
    US-8462335-B2June 11, 2013Alcatel LucentSystem for analyzing a low-pressure gas by optical emission spectroscopy
    US-8668868-B2March 11, 2014Applied Materials, Inc.Methods and apparatus for smart abatement using an improved fuel circuit
    WO-0212585-A2February 14, 2002Tokyo Electron LimitedAppareil de traitement et procede de nettoyage
    WO-0212585-A3April 18, 2002Tokyo Electron Ltd, Noriaki FukiageProcessing apparatus and cleaning method
    WO-03063196-A1July 31, 2003Applied Materials, Inc.Detection de point terminal de processus dans des chambres de traitement
    WO-2006094913-A1September 14, 2006Askair Technologies AgProcede de fonctionnement d'un dispositif a plasma a ecoulement traversant
    WO-2009027156-A1March 05, 2009Alcatel LucentSysteme d'analyse de gaz a basse pression par spectroscopie d'emission optique